高纯电子级氟化氢
分子式: HF
产品介绍:

主要用途:在半导体领域,主要用于晶圆制造过程中的外延前清洗、氧化硅干法刻蚀、刻蚀后残渣去除、腔体在线清洗及钝化处理等关键工序。

产品详情

主要用途:

在半导体领域,主要用于晶圆制造过程中的外延前清洗、氧化硅干法刻蚀、刻蚀后残渣去除、腔体在线清洗及钝化处理等关键工序。

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